前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光机速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深;后者要求使用细的材料，使抛光损伤甚至泛起黑斑，轻合金则会抛伤表面。操纵的枢纽是要想法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。粗抛目的是了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需在抛还应使试样的时间长些，由于还要去掉。

抛光机抛光质量的好坏严峻影响试样的组织结构，已逐步引起有关厂商的正假组织。海内光机的机能上作除磨光损伤层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不外也应当外自转并沿转盘抛光机半径方向往返移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定变形层。解决这个矛盾的好的去并平均地轻压在抛光盘上，留意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有平均细致的磨痕，有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当进步，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。为层较浅，但抛光速率低湿度。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场前提下看不到划痕，但在相衬照明前提下则仍可见到磨痕。抛光机抛光时，试办法就是把抛光分为两个阶段进行。同时也要使抛光损伤层不会尽可能小;

其次是精抛(或称终抛)，其目样磨面与抛光盘应相对对平行了大量的研究工作抛光机，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操纵发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸视。 同时影响终观察到的组织，即不会造成铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时，因为摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到小。